製品案内 : ドイツ　ヘルママテリアルズ社 : 株式会社オプトピア

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■ ドイツ　ヘルママテリアルズ社（Hellma Materials GmbH & Co.KG）

ヘルマグループは、2010年4月ショット・リソテックのフッ化カルシウムの生産を引き継ぎヘルママテリアルズ社に社名を変更しました。
同社はドイツのイエナ市にありカールツアイスの時代より80年以上の高純度のフッ化カルシウムの結晶成長技術を有し、248nm、193 nmさらに193nm液浸マイクロ/リソグラフィに不可欠な光学材料を提供しています。

■ ヘルママテリアルズのフッ化カルシウムの特徴

ヘルママテリアルズの高純度の原料から結晶成長したフッ化カルシウム単結晶は、193nm及び248nmのマイクロリソグラフィー光学系に必要とされ以下の大きな特徴を持っています。

- 広い透過波長範囲 (150nm - 8μm)

- 高いレーザ耐性

- 低い応力複屈折

- 高い屈折率の均一性

高いレーザ耐性のため弊社のCaF2は、まずリソグラフィー用のエキシマレーザ光学系、ビーム伝送系、他の広い波長のエキシマレーザの応用に使われます。
フッ化カルシウムの結晶は、130nmから9μmにわたり非常に良く透過しVUVからIRまで光学材料に使われます。
これはまた天文観測や写真機、HDTVズームレンズの光学系の色収差の補正にも使われます。またセンサー（特にIRスペクトルで）、分光計と医療レーザー装置に使われます。

ヘルママテリアルズ社は御要求に応じて<111>,<100>,<110>,ランダム若しくは他の御要求の異なる結晶方向のコンポーネントとブランクを切断、グラインド、研磨などの表面処理をして提供致します。

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■ IC Litho:　エキシマレーザ及び伝達光学系グレードCaF₂

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サイズ	ディスク: 100mm径/30mm厚までプリズム: 辺長さ 100mmまで
波長	248nm	193nm		157nm
材料透過率 (10mmサンプル厚)	99.8 %以上	99.7 %以上		99.4 %以上
屈折率の均一性 PV 633nmにて	1-15 ppm (径に依存します)
応力複屈折^* PV 633nmにて	0.5-20 nm/cm²
気泡含有量 (ISO 10110-3)	1/1x0.063 (典型値)
レーザ耐性 PV 633nmにて	ヘルママテリアルズでは下記のクラスの高いレーザ耐性の材料を御提供します。材料の特性に加え、耐久性はレーザエネルギーを挙げた場合、表面品質やレーザー動作条件にも依存します。
レーザ耐性のクラス	LD-A: スーパー LD-C: アドバンスド		LD-B: ハイ LD-D: スタンダード
長期レーザー耐久性条件は、個々の使用条件に合った上記の各々のクラスでから得ることが出来ます。波長、エネルギー密度、繰り返し率、パルス幅とパルス数を規定して下さい。
レーザダメージ閾値 PV 633nmにて	～7J/cm2 (表面の欠陥や蒸散に影響されます)

* <111>方向の最小値単結晶材料。また多結晶材も可能です。

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■ IC Litho:　リソグラフィー製造グレードCaF₂

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サイズ	ディスク: 350mm径/80mm厚まで
波長	248nm	193nm	157nm
材料透過率 (10mmサンプル厚)	99.8 %以上	99.7 %以上	99.4 %以上
屈折率の均一性 PV 633nmにて	1-15 ppm (径に依存します)
応力複屈折^* PV 633nmにて	0.5-20 nm/cm²
気泡含有量 (ISO 10110-3)	1/1x0.063 (典型値)

* <111>方向の最小値単結晶材料。また多結晶材も可能です。

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■ Non-ILitho:　ノンリソグラフィーグレードCaF₂

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サイズ	ディスク: 350mm径/80mm厚まで
グレード	UVグレード: 193nm - 400nm 可視グレード: 400nm - 780nm IRグレード: 0.78 - 8.00μm
材料透過率 (10mmサンプル厚)	99.0 %以上
屈折率の均一性 PV 633nmにて	3 -20 ppm
応力複屈折^* PV 633nmにて	1 - 50 nm/cm²
気泡含有量 (ISO 10110-3)	1/1x0.10 (典型値)

* <111>方向の最小値単結晶材料。また多結晶材も可能です。

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